上海電子掃描顯微鏡SEM公司,上海掃描式電鏡SEM,宜特檢測(cè)
掃描電鏡(SEM)
原理
掃描式電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope, SEM）主要利用電子光學(xué)系統(tǒng)將電子槍產(chǎn)生的電子聚焦成一微小的電子束至樣品表面，并利用掃描線圈使其在樣品表面上掃描。
電子束與樣品間的交互作用會(huì)激發(fā)出各種訊號(hào)，如: 二次電子、背向散射電子及特性X光等，SEM主要就是收集二次電子的訊號(hào)來(lái)成像。由于SEM分辨率高，放大倍率可達(dá)到數(shù)十萬(wàn)倍以上，且景深大，主要是用來(lái)觀察樣品表面及剖面微結(jié)構(gòu)，如在設(shè)備上加裝能量分散X光譜儀(Energy Dispersive Spectrometer, EDS)時(shí)，可對(duì)樣品表面同時(shí)進(jìn)行微區(qū)之材料分析，包括定性、半定量之元素分析以及特定區(qū)域之Point、Line Scan、Mapping分析。
iST服務(wù)優(yōu)勢(shì)
宜特?fù)碛卸嗯_(tái)目前業(yè)界主流的場(chǎng)發(fā)射掃描式電子顯微鏡(FE-SEM)：Verios460L、SU8020、SU8220、Jeol 6700F、Hitachi S-4700，且加裝EDS (SDD detector)，可提供目前業(yè)界特高解析之表面結(jié)構(gòu)分析影像，亦可快速進(jìn)行材料成份之分析。
應(yīng)用
針對(duì)各種材料表面微結(jié)構(gòu)觀察。
藉由SEM本身之量測(cè)功能，可提供精確之尺寸量測(cè)，如膜厚等。
EDS可提供樣品表面之微區(qū)定性或半定量之成份元素分析，以及特定區(qū)域之Point、Line Scan、Mapping分析；其中SDD detector更能在低電壓下，提升Mapping的空間分辨率。
SEM自動(dòng)拍照，搭配層次去除技術(shù)de-process可提供電路逆向工程參考。
利用低能電子束掃描做被動(dòng)式影像對(duì)比(Passive Voltage Contrast, PVC)，對(duì)于異常漏電或接觸不良的半導(dǎo)體組件損壞可以精確的定位，提供故障分析之判斷。
關(guān)于宜特：
iST始創(chuàng)于1994年的中國(guó)臺(tái)灣，主要以提供集成電路行業(yè)可靠性驗(yàn)證、失效分析、材料分析、無(wú)線認(rèn)證等技術(shù)服務(wù)。2002年進(jìn)駐上海，全球現(xiàn)已有7座實(shí)驗(yàn)室12個(gè)服務(wù)據(jù)點(diǎn)，目前已然成為深具影響力之芯片驗(yàn)證第三方實(shí)驗(yàn)室。
**咨詢電話：8009880501
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